专利：有效的镓薄膜电镀方法和化学组合物

    【慧聪表面处理网】申请（专利）号:CN200780039172.8申请日:2007.09.25

    公开（公告）号:CN101528987公开（公告）日:2009.09.09

    主分类号:C25C1/22(2006.01)I

    分类号:C25C1/22(2006.01)I

    优先权:2006.9.27US11/535,927

    申请（专利权）人:索罗能源公司

    地址:美国加利福尼亚

    国省代码:美国;US

    发明（设计）人:A·塞尔德尔;王家雄;B·M·巴索尔

    国际申请:2007-09-25PCT/US2007/079356

    国际公布:2008-04-03WO2008/039736英

    进入国家日期:2009.04.21

    专利代理机构:中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

    代理人:李帆

    摘要:

    本发明涉及以高镀覆效率和可再现性沉积均匀、无缺陷和平滑的Ga膜的镓(Ga)电镀方法和化学组合物。这些层可用于制造电子器件如薄膜太阳能电池。在一个实施方案中，本发明提供了施加在导体上的溶液，该溶液包含Ga盐、络合剂、溶剂，并在将该溶液电沉积到导体上时形成具有亚微米厚度的Ga膜。该溶液还可以包含Cu盐和In盐之一或两者。

    主权项:

    1.用于在导体上施加亚微米厚的含Ga膜的溶液，其包含：

    Ga盐，

    络合剂，

    溶剂，且

    其中该溶液在导体上提供亚微米厚的含Ga膜的电沉积。

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