专利：一种提高氧化锌薄膜性能的方法

2009/9/2/08:44 来源：中国知识产权网

【慧聪表面处理网】申请（专利）号:CN200810186296.5申请日:2008.12.22

公开（公告）号:CN101457340公开（公告）日:2009.06.17

主分类号:C23C14/22(2006.01)I

分类号:C23C14/22(2006.01)I

申请（专利权）人:中国航天科技集团公司第五研究院第五一○研究所

地址:730000甘肃省兰州市94号信箱

国省代码:甘肃;62

发明（设计）人:王云飞;陈学康;杨生胜;李中华;郑阔海;王兰喜;冯展祖;高欣

专利代理机构:北京理工大学专利中心

代理人:张利萍

摘要:

本发明公开了一种提高氧化锌薄膜性能的方法，属于表面工程技术领域。在27℃下，将在基底温度为200℃～300℃间镀制的氧化锌薄膜放置于真空室中并通入纯度为99.99％的氧气，之后通过同轴放电组件将微波输入真空室中，使氧气在同轴放电腔中放电，形成氧等离子体。对在同轴放电腔前放置的金属板上加10V偏压，使氧等离子体中的氧离子与金属板碰撞获得电子，从而形成原子氧，将原子氧反射至样品架处与氧化锌薄膜发生作用。采用本发明改善的氧化锌薄膜可在压电传感器，光学波导，表面超声波装置，气体传感器以及太阳能电池等器件的制备上得到广泛应用。

主权项:

1、一种提高氧化锌薄膜性能的方法，其特征在于步骤如下：

步骤一、将在基底温度为200℃～300℃间镀制的氧化锌薄膜装在试样架上送入真空室，并对真空室进行抽真空操作，使真空室压力达到4×10-4Pa以上；

步骤二、将纯度为99.99％的氧气通过气体流量控制器送入真空室中，使真空室中的压力保持在3×10-1Pa；

步骤三、通过同轴放电组件将微波输入真空室中，使氧气在同轴放电腔中放电，形成氧等离子体；

步骤四、对在同轴放电腔前放置的金属板上加10V偏压，使氧等离子体中的氧离子与金属板碰撞获得电子，从而形成原子氧，将原子氧反射至样品架处与氧化锌薄膜发生作用，作用的时间要求不少于45min；

上述处理过程均在27℃室温下进行。

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