一种叠层片式电子元件的表面处理方法

    申请号：200710075891.7

    名称：一种叠层片式电子元件的表面处理方法

    公开(公告)号：CN101350238

    公开(公告)日：2009.01.21

    主分类号：H01C7/10(2006.01)I

    申请(专利权)人：深圳振华富电子有限公司

    地址：518109广东省深圳市宝安区龙华镇和平路振华科技园A栋厂房AC段4楼

    发明(设计)人：徐鹏飞;高兴尧;何明星;丁晓鸿;樊应县;肖倩;高永毅;陈传庆;潘锴

    专利代理机构：深圳中一专利商标事务所

    代理人：张全文

    摘要

    本发明提供了一种叠层片式电子元件表面处理方法，包括下述步骤：(1)将涂银后的叠层片式电子元件在去离子水中清洗1-5分钟，去除表面杂质后干燥，待处理；并配置表面处理用磷酸溶液，保持溶液温度为40-90℃；(2)将待处理电子元件晶片浸泡于所述磷酸溶液中0.1-20分钟；(3)将浸泡后的晶片在25-130℃下干燥；(4)将干燥后的晶片在300-900℃下烧结。采用本发明提供的处理方法，不仅操作简单、成本低，而且不影响产品自身性能。

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