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无断差的局部电镀方法

2009/1/4/15:47 来源:中华人民共和国国家知识产权局

    申请号:200710106079.6

    名称:无断差的局部电镀方法

    公开(公告)号:CN101314863

    公开(公告)日:2008.12.03

    主分类号:C25D5/02(2006.01)I

    申请(专利权)人:金艺企业股份有限公司

    地址:中国台湾

    发明(设计)人:庄和枝

    专利代理机构:北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司

    代理人:孙皓晨,费碧华

    摘要

    本发明是一种无断差的局部电镀方法,适用于被镀物表面局部存在有断面不平整,为避免产生尖端效应,的一种电镀方法是在一通电电镀处理制程中,在电镀液中利用至少一导体,靠近至少一被镀对象表面存在的边缘交界处相对应位置;上述所述的导体与被镀物之间,形成局部感应分散其表面因电力线过于集中边缘,使沉积物不会过于集中在边缘使局部镀层加厚,均匀的散布在所述的被镀物的表面,达到被镀对象表面均匀平整无断差。

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