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    离子束增强沉积（IBED）是一种将离子注入和薄膜沉积相结合的先进的材料表面改性新技术。该设备配置了高能气体离子束源、高能MEVVA金属离子束源、低能离子束溅射沉积薄膜系统，具有单元离子注入、双元离子注入、薄膜沉积、静态和动态离子束增强沉积等多种功能，可实现离子注入改性、金属表面合金化和制备各种功能膜等多种工艺。该技术处理温度较低（<300℃），已被广泛应用于工模具、量刃具及精密零部件的处理，能显著改善材料表面的耐磨性、耐腐蚀性、降低磨擦系数和抗疲劳等功能。该技术已在国防、民用工业中得到实际应用。

经离子束增强沉积处理的滚齿刀

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    主要技术指标：

    气体离子束源：束流大5mA，电压30-80KV，束斑φ150mm，不均匀性小于±25%；

    金属离子束源：束流大于5mA，电压20-50KV，束斑φ150mm，不均匀性小于±30%；

    溅射离子源：束流大于100mA，电压1-4KV，束斑φ50mm；

    真空室直径800mm，静真空度8×10-4Pa，三维（自转，水平往复、倾斜）运动，内水冷工件靶。