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磁控溅射镀膜(MSP)技术与设备(图)
2008/7/2/09:18  来源:深圳八六三计划材料表面技术研发中心

磁控溅射镀膜

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    磁控溅射镀膜(MSP)是一种先进的表面装饰镀膜技术,膜材做成阴极圆柱磁控旋转靶置于镀膜室中央,通入工作气体,在电压(直流或脉冲)作用下产生真空辉光放电,360℃方向辐射镀膜。靶材利用率高,工作温度低,可用于金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷等)工件镀制铝、铜、铬、镍、钛、金、银以及不锈钢等薄膜,通入反应气体可镀多种化合物膜,镀膜层具有均匀、致密、附着力强、绕射性好等特点,广泛用于家用电器、钟表、工艺美术、玩具、车灯反光罩以及仪器仪表等表面装饰性镀膜。

磁控溅射镀膜

MSP在塑料基体上制备AI膜与着色

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    主要技术指标:

    处理室φ1000×1300MM

    静真空度8×10-4Pa

    放电电源0-500V,25A,直流偏压0-800V;

    公转、自转二维工件架。



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