旋转磁控真空电弧离子镀（AIP）是一种先进的硬质层镀膜技术。与一般PVD不同之处是采用了柱状旋转磁控弧源靶，置于镀膜室中央，应用冷阴极真空弧放电原理，360度方向辐射镀膜。靶材利用率高，镀膜均匀区大，色差小，工艺重复性好。该装置还采用了脉冲偏压技术，实现了低温沉积(~200℃)，从而扩大了基体材料和高性能镀层的范围，并可制备内应力较低和更厚的薄膜。

    利用该技术可以制备多种超硬涂层，如TiN、TiC、ZrN、CrN、TiCN、(Ti,Ai)N、AI2O3等，以及多层复合膜。这些镀层作为功能膜广泛用于工模具及零部件的耐磨层，同时这些镀层的不同装饰色也可以用于高档装饰膜。

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