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电镀铜技术在电子材料中的应用
2008/7/1/08:49  来源:慧聪网表面处理行业频道

    摘要:电镀铜层具有良好的导电、导热、延展性等优点,因此,电镀铜技术被广泛应用于电子材料制造领域。本文概括了几种常用电镀铜体系的特点,重点介绍了在电子制造中应用较广的酸性硫酸盐电镀铜镀液的组成和各成分作用。简述了电镀铜在铜箔粗化、印制电路制作、电子封装、超大规模集成电路(ULSI)铜互连领域的应用,并对近年来电子工业中应用的几种先进电镀铜技术,包括脉冲电镀铜技术、水平直接电镀铜技术、超声波电镀铜技术、激光电镀铜技术等进行了评述。
    关键词:电子材料;电镀铜;铜箔粗化;印制电路;电子封装;超大规模集成电路(ULSI)
    中图分类号:TQ153.14; TQ178         文献标识码:A    文章编号:1004 – 227X (2007) 02 – 0043 – 05
     1 前言
     电镀铜层因其具有良好的导电性、导热性和机械延展性等优点而被广泛应用于电子信息产品领域,电镀铜技术也因此渗透到了整个电子材料制造领域,从印制电路板(PCB)制造到 IC 封装,再到大规模集成线路(芯片)的铜互连技术等电子领域都离不开它,因此电镀铜技术已成为现代微电子制造中必不可少的关键电镀技术之一。电子行业的电镀铜技术含量很高,电镀铜层的功能、质量和精度以及电镀方法等方面与传统的装饰性防护性电镀铜技术有所不同。中国的电
子信息产业正在迅速崛起,有资料表明,中国的印制电路产值 2003 年已经超过美国居世界第二位,成为名副其实的 PCB 生产大国,并且有望在 2008 年超过日本居世界第一,而以上海为中心的长三角地区的集成电路产业也在飞速发展,逐渐成为该地区的支柱性产业[1-3]。这些产业的发展必将推动电镀铜技术的应用领域进一步扩大。为了满足具有高科技含量电子产品制造的要求,出现了许多新的电镀铜技术,如脉冲电镀铜技术、水平直接电镀铜技术、超声波电镀铜技术、激光诱导选择电镀铜技术等。
    2 电镀铜简介
    2. 1 常用的电镀铜镀液及特点
    常用电镀铜镀液的分类及特点列于表 1。

1

 除所列出的体系之外,其它如氟硼酸盐、柠檬酸-酒石酸盐等电镀铜体系也不适合用在电子行业。相比之下,酸性硫酸盐镀铜体系因其具有上述优点而被广泛应用于电子行业。

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