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电镀处理装置和电镀处理方法
 
慧聪网   2005年9月9日11时1分   信息来源:中华人民共和国知识产权局    

【名称】:电镀处理装置和电镀处理方法   

【公开(公告)号】:1637171  

【公开(公告)日】:2005.07.13  

【申请(专利权)人】:日本爱美克斯株式会社 

【发明(设计)人】:小畑总一;龟山雄一  

【摘要】:本发明提供一种电镀处理装置,通过延长必须进行维护操作的期限,可以大幅度地提高生产率。设置有可将各阳极室内且该各阳极单元外的电镀处理液抽出,供应到其它地方的电镀处理液抽出供应装置,可通过电化学方法除去抽出供应的电镀处理液中杂质的第1杂质除去装置,可机械除去通过该第1杂质除去装置后残留在电镀处理液中的杂质的第2杂质除去装置,以及可将通过该第2杂质除去装置除去残留杂质后的电镀处理液,回流供应给上述电镀处理槽内且各密闭阳极室结构体外的阴极室中去的电镀处理液回流供应装置。  

 
 
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